KIELCE, junio 3, 2018 (Xinhua) -- Imagen del 20 de junio de 2018 de modelos presentando creaciones durante la 20 edición de la Competencia Internacional para Diseñadores en kielce, Polonia. (Xinhua/Chen Xu)
KIELCE, Polonia, 3 jun (Xinhua) -- Las creaciones de la diseñadora china Chen Jing, tituladas "Yin y Yang", ganaron la vigésima edición de la Competencia Internacional de Diseñadores y Entusiastas de la Moda "Off Fashion", llevada a cabo en Kielce, Polonia.
De acuerdo con los organizadores del evento realizado el 1 y 2 de junio, más de 100 diseñadores pasaron a las semifinales de la competencia, pero de ellos sólo 20 llegaron a las finales, incluidos dos estudiantes del Instituto de la Moda de Beijing, entre ellos Chen Jing.
La creación de Chen, "Yin y Yang", se convirtió en la ganadora, mientras que el diseñador polaco Adrian Krupa y el Dueto RAD se ubicaron en segundo y tercer sitios, respectivamente. En la competencia también se entregaron premios y reconocimientos adicionales.
En entrevista con Xinhua, Chen Jing dijo que ésta es la primera vez que participa en una competencia de ese tipo en el extranjero. "El resultado me alentó a crear mejores trabajos", agregó.
Liao Qing del Instituto de la Moda de Beijing declaró que las competencias de diseño internacionales brindan a los estudiantes una plataforma para mostrar su diseño creativo y compartir experiencias. El instituto desea aprovechar esas competencias para promover la cultura tradicional del vestido y los diseños innovadores de China, agregó.
La Competencia Internacional de Diseñadores y Entusiastas de la Moda en Kielce fue iniciada en 2007. Se enfoca en diseñadores jóvenes y tiene el objetivo de darles la oportunidad de tener un buen comienzo en el negocio.
A los ganadores se les otorgan becas y se les da la oportunidad de presentar sus colecciones en desfiles de la moda prestigiosos.
KIELCE, junio 3, 2018 (Xinhua) -- Imagen del 20 de junio de 2018 del alcalde de Kielce, Wojciech Lubawski (d), presentando el premio a la diseñadora Chen Jing (2-d) durante la 20 edición de la Competencia Internacional para Diseñadores en kielce, Polonia. (Xinhua/Chen Xu)
